ХИМИЧЕСКАЯ БЕЗОПАСНОСТЬ, 2017, № 1, с. 78 — 85

 

Мониторинг состояния почвы, воздуха, воды

 

УДК 502.15                                                                                  Скачать PDF

DOI: 10.25514/CHS.2017.1.11434

 

К ВОПРОСУ О СОЗДАНИИ МЕТОДИКИ ПРИМЕНЕНИЯ МДП-СЕНСОРОВ ДЛЯ КОНТРОЛЯ ВРЕДНЫХ ГАЗОВ НА ОБЪЕКТАХ ХИМИЧЕСКИ ОПАСНЫХ ПРЕДПРИЯТИЙ

А. А. Михайлов1*, В. А. Гулевский2, Б. В. Тарасов3, В. А. Сырцов3

1ООО Научно-производственная фирма «ИНКРАМ», Москва, Россия
227-й Научный центр Министерства обороны РФ, Москва, Россия
3ЗАО Научно-производственный центр «Модуль», Москва, Россия

Поступила в редакцию 10.04.2017 г.

Опубликовано 26.06.2017 г.

Предложен подход к созданию методического аппарата по контролю вредных газовых выбросов на химически опасных предприятиях с использованием МДП-сенсоров (МДП: металл-диэлектрик-полупроводник). Разработаны высокочувствительные МДП-сенсоры, содержащие структуры Pd-SiO2-Si и Pd-Ta2O5-SiO2-Si, способные определять содержание в воздухе следующих газов: H2, H2S, NO2, C2H5SH, NH3, Cl2. Сенсоры могут применяться в качестве эффективных датчиков для контроля газов на объектах химико-технологического комплекса.
Ключевые слова: МДП-сенсор, динамические и статические характеристики, концентрации исследуемых газов, химически опасные предприятия, антропогенная деятельность, химическая безопасность, риски возникновения угроз.

APPROACH TO CREATING METHOD OF APPLICATION OF MIS-SENSORS FOR MONITORING HARMFUL EMISSIONS AT CHEMICALLY HAZARDOUS ENTERPRISES

A. A. Mikhailov1*, V. A. Gulevsky2, B. V. Tarasov3, and V. A. Syrtsov3

1OOO NPF “INKRAM”, Moscow, Russia

227th Scientific Center of the Ministry of Defense of the Russian Federation, Moscow, Russia

3ZAO NPC “Modul’”, Moscow, Russia

Received April 10, 2017

Published June 26, 2017

Abstract – An approach is proposed to creating a methodological apparatus for monitoring harmful gas emissions at chemically hazardous enterprises using MIS sensors (MIS: metal-insulator-semiconductor). Highly sensitive MIS sensors have been developed which contain Pd-SiO2-Si and Pd-Ta2O5-SiO2-Si structures capable of determining content of the following gases in air: H2, H2S, NO2, C2H5SH, NH3, Cl2. The sensors can be used as effective sensing devices for monitoring gas content at chemical plant facilities.

Keywords: MIS sensor, dynamic and static characteristics, concentrations of test gases, chemically hazardous enterprises, anthropogenic activities, chemical safety, safety risks.